接触式曝光？
光学所老所长的话，让会议室里的气氛，再次变得微妙起来。
在场的专家们，都明白他话里的意思。
所谓的接触式曝光，是光刻技术最原始，也是最简单的形态。
它的优点是，结构简单，对光学系统的要求极低，甚至不需要投影物镜，只需要一个平行的光源，就能工作。
非常适合在当前一穷二白的情况下，快速搭建一个实验平台，用来验证光刻胶、显影、刻蚀等一系列化学工艺。
这听起来，是一个非常务实，非常符合当前国情的选择。
立刻，就有不少专家表示了赞同。
“我同意老张的看法！我们不能好高骛远，一口就想吃成个胖子。饭要一口一口吃，路要一步一步走。”
“没错，先用接触式曝光，把工艺流程跑通，把配套的材料搞出来。等这些基础打好了，再回头来攻关投影式光刻机，不是更稳妥吗？”
“先解决‘有’和‘没有’的问题，再解决‘好’和‘不好’的问题。我支持这个方案！”
一时间，主张“先易后难，稳扎稳打”的声音，占据了上风。
所有人的目光，都看向了林振，等待着他这个总设计师的最终决断。
林振没立刻表态。
他走到黑板前，看着自己刚刚画下的任务分配表，陷入了沉思。
其实，专家们说的有道理。
接触式曝光，确实是当前最现实的选择。
如果他一意孤行，非要一步到位，直接上最先进的投影式光刻机，那很可能会因为目标过高，导致整个项目在起步阶段，就因为无数个“不具备”而停滞不前，最终拖垮所有人的信心。